Intel je postao prva kompanija koja je uvela masovnu proizvodnju logičkih čipova koristeći ASML-ovu High NA EUV litografiju, i to za odabrane slojeve Panther Lake procesora na Intel 18A procesu. ASML je potvrdio da su slojevi dualno kvalifikovani, što znači da se isti sloj može izložiti na postojećim 0.33 NA ili novim 0.55 NA skenerima, sa zamenljivim rezultatima.
High NA EUV koristi istu ekstremnu ultraljubičastu svetlost od 13,5 nanometara, ali sa numeričkim otvorom povećanim sa 0,33 na 0,55, što omogućava finije uzorke u jednom izlaganju. Ovo smanjuje potrebu za složenim višestrukim tehnikama i poboljšava preciznost. Intel planira da proširi upotrebu ove tehnologije na buduće čvorove poput Intel 14A.