Kineski startap Langdao Silex, osnovan 2024. od strane alumnija Laboratorije za gasno‑pražnjenje plazme Univerziteta Tsinghua, predstavio je prototip ekstremno ultraljubičastog (EUV) izvora svetlosti na 26. Međunarodnom sajmu industrije u Šangaju. Sistem FlintNano LPP-OXXO koristi tehnologiju laserski proizvedene plazme (LPP) i postiže izlaznu snagu veću od 15 W, sa 90% domaćih komponenti i stabilnošću rada preko 100 sati. Međutim, izvor nije prikazan u radu, a snaga je verovatno merena na plazmi, a ne na srednjem fokusu kao kod ASML-a.
Iako je ovo napredak, izvor sam po sebi ne čini EUV skener. Langdao razvija i moćniji FlintMicro-LPP, ali bez objavljenih specifikacija. Za komercijalizaciju će biti potrebno tri do pet godina, a za potpunu EUV litografiju neophodni su i kolektorska optika, maske, precizne faze i integracija sistema. Trenutno nema dokaza da je Kina značajno bliža proizvodnji sopstvenih EUV mašina.