Kineski poluprovodnički startup Prinano objavio je da je uspešno validirao masovnu proizvodnju fotoničkih čipova bez korišćenja standardne DUV litografije. U saradnji sa Shenzhen Litra Technology, kompanija je proizvela 8-inčne pločice sa optičkim čipovima koristeći sopstveni PL-AS sistem nanoimprint litografije (NIL). Ovaj proces fizički utiskuje nanostrukture u sloj rezista, smanjujući troškove proizvodnje na otprilike desetinu u odnosu na tradicionalne DUV procese.
Fotonički čipovi, koji manipulišu svetlošću umesto električnim signalima, posebno su pogodni za NIL zbog ponavljajućih nanouzoraka. Prinano tvrdi da njihova tehnologija može da proizvede strukture manje od 10 nanometara. Iako su rezultati obećavajući, kompanija nije objavila podatke o prinosu, stopama grešaka ili nezavisnoj verifikaciji, što je ključno za procenu komercijalne održivosti.