Intel je ove nedelje zvanično pokrenuo proširenje Bowers kampusa u Santa Klari, Kalifornija, izgradnjom nove fabrike i pomoćnog objekta. Cilj je povećanje kapaciteta za proizvodnju fotomaski (retikula) koje su ključne za najsavremenije procesne tehnologije poput Intel 18A, 18A-P i 14A. Novi objekat će imati čistu sobu klase 1 i moći će da proizvodi maske za DUV i EUV slojeve, sa posebnim fokusom na napredne tehnike poput krivolinijske optičke korekcije (OPC).
Intel je jedan od retkih proizvođača čipova koji zadržava sopstvenu proizvodnju maski, što je važno jer svaki napredni proizvod zahteva stotine maski, a EUV alati vremenom oštećuju maske. Kompanija kroz svoju podružnicu IMS Nanofabrication proizvodi sopstvene alate za pisanje maski sa više snopova, koji koriste 262.144 nezavisno programabilna elektronska snopa za znatno veću propusnost. Ovo proširenje jača poziciju Intela u američkoj proizvodnji poluprovodnika.