Micron je odustao od 4F2 memorijskih ćelija i umesto toga planira da nastavi skaliranje DRAM-a uvođenjem wafer bonding tehnologije sa predstojećim 1ε procesom. Kompanija trenutno proizvodi 1γ DRAM, dok 1δ treba da uđe u masovnu proizvodnju u drugoj polovini 2027. godine sa povećanjem gustine bitova od oko 20 odsto. Za kasnije generacije, ζÅ i ηÅ, Micron planira High-NA EUV litografiju i nove materijale.
Pored novih procesa, Micron razvija i vertikalnu high-bandwidth memoriju (vHBM) i vertikalnu edge inference memoriju (vEIM), koje se integrišu direktno na procesore. vHBM smanjuje latenciju i povećava propusni opseg, ali nosi termalne izazove, dok je vEIM namenjen energetski efikasnim edge AI uređajima. Obe tehnologije zahtevaju napredno pakovanje, poput hibridnog bondinga, a komercijalni rokovi nisu objavljeni.
