Kineski startap predstavio prototip EUV izvora svetlosti
Langdao Silex je na sajmu u Šangaju prikazao prototip EUV izvora svetlosti snage 15 W i 90% domaćih komponenti, ali komercijalizacija sledi za tri do pet godina.
5 članaka
Langdao Silex je na sajmu u Šangaju prikazao prototip EUV izvora svetlosti snage 15 W i 90% domaćih komponenti, ali komercijalizacija sledi za tri do pet godina.
Intel je započeo proširenje Bowers kampusa u Santa Klari za proizvodnju naprednih fotomaski, uključujući one za EUV i High-NA EUV litografiju.
SK hynix planira prikupljanje do 29,43 milijarde dolara kroz ADR listing na Nasdaqu, a sav prihod namenjen je izgradnji naprednih fabrika memorije i nabavci EUV opreme.
ASML negira izveštaj da je jedna od njegovih EUV litografskih mašina završila u Kini uprkos izvoznim ograničenjima, nazivajući tvrdnje netačnim i štetnim po reputaciju.
Holandska kompanija ASML, jedini proizvođač EUV litografskih mašina, dostigla je tržišnu kapitalizaciju od 668 milijardi dolara, nadmašivši rekord Novoa Nordiska.
